分子ソフト&インフォマティクス
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製品カタログやユーザー様の事例発表資料等をお送りします

Discovery Studio/Materials Studioユーザー様による、
事例発表資料をご紹介いたします。

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CASTEPを活用した材料開発と材料評価の紹介 -半導体シリコン結晶,界面密着性など-
岡山県立大学 情報工学部 末岡浩治氏

アジェンダ

  1. 計算環境のご紹介
  2. CASTEPによる材料開発・評価の支援(研究紹介)
    • LSI用Si結晶の高品位化
    • 不純物ゲッタリング
    • LSIポストスケーリング基板
    • Si (110) 基板,複合結晶面基板
    • 界面密着性の評価
  3. まとめ
資料1

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密度汎関数法によるPd表面上の酸素原子の触媒機能解明
九州大学 先導物質化学研究所 反応・物性理論分野(吉澤研究室) 蒲池高志氏

資料2


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多孔性材料(多孔性イオン結晶)の構造と機能解析
東京大学大学院 総合文化研究科/ST-さきがけ 内田さやか氏
東京大学大学院 工学系研究科 水野哲孝氏

資料3


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CASTEPを用いたELNES理論計算の基礎と応用
東京大学 生産技術研究所 溝口照康氏

アジェンダ

  1. ELNES/XANESの基礎
  2. ELNES/XANES理論計算の基礎
  3. CASTEPを用いたELNES計算法
  4. 具体的な手法
  5. CASTEP-ELNESの応用
  6. 固体,有機物,液体のELNES計算
  7. ELNESの解釈
  8. 共有結合ダイアグラムの利用
資料4

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